江苏正置金相显微 MKL系列正置金相显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的，作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其*性能，可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测。本仪器采用了反射和透射两种照明形式，在反射光照明下可进行明暗场观察和DIC观察、偏光观察。在透射光下作明场观察。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰，

微分干涉金相显微镜供应厂家 该款微分干涉显微镜的设计原理是以平面偏振光为光源，光线经棱镜折射后分成两束，在不同时间经过样品的相邻部位，然后经过另一棱镜将这两束光汇合，从而样品中厚度上的微小差别就会转化成明暗区别，增加了样品反差，造成了三维立体感。

正置金相显微镜公司供应MKL系列正置金相显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的，作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其*性能，可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测。本仪器采用了反射和透射两种照明形式，在反射光照明下可进行明暗场观察和DIC观察、偏光观察。在透射光下作明场观察。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰

倒置金相显微镜生产厂家 MKL系列倒置金相显微镜采用优质的无限远光学系统，同时配备明暗场通用的长工作距离平场平场消色差物镜，多光路的系统设计，可同时支持双目镜筒观察和数码摄像装置观察。

正置金相显微镜厂家 MKL系列正置金相显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的，作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其*性能，可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测。本仪器采用了反射和透射两种照明形式，在反射光照明下可进行明暗场观察和DIC观察、偏光观察。在透射光下作明场观察。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰

金相分析图谱供应厂家 根据国家标准GB 10651-89，美国标准 ASTM：E45-87，主要适用于经过延伸变形（如轧制、锻造、冷拔等）的钢材中非金属夹杂物的显微评定。检验夹杂物一般同时检验几种类型的夹杂并经常进行淬火处理。钢中主要的元素是铁，但并非纯铁，其中会含有一定的杂质，杂物共有四种，分为A、B、C、D四类，A代表硫化物，B代表氧化铝，C代表硅酸盐类，D代表球状氧化

苏州金相分析图谱供应 根据国家标准GB 10651-89，美国标准 ASTM：E45-87，主要适用于经过延伸变形（如轧制、锻造、冷拔等）的钢材中非金属夹杂物的显微评定。检验夹杂物一般同时检验几种类型的夹杂并经常进行淬火处理。钢中主要的元素是铁，但并非纯铁，其中会含有一定的杂质，杂物共有四种，分为A、B、C、D四类，A代表硫化物，B代表氧化铝，C代表硅酸盐类，D代表球状氧化

正置金相显微镜供应MKL系列正置金相显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的，作为高级金相显微镜用户在使用时能够体验其*性能，可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测。本仪器采用了反射和透射两种照明形式，在反射光照明下可进行明暗场观察和DIC观察、偏光观察。在透射光下作明场观察。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰